苏州纳丰真空技术有限公司 - PVD真空镀膜靶材陶瓷靶旋转管靶合金靶磁控靶材

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铟锡/铟管靶

合金靶材

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纯度99.999%铟管靶， 铟锡管靶，纯度99.999%，比例30/70,50/50,70/30,90/10，可以根据客户要求配比。 广泛应用于手机家电产品非导（NCVM）镀膜
硅铝镍铬靶

合金靶材

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喷涂硅铝，镍铬等合金靶
氧化铌NbxOy

陶瓷靶材

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氧化铌旋转靶采用等离子喷涂工艺，可生产最大长度4000mm，喷涂厚度根据客户要求定制。   氧化铌平面靶采用冷压烧结工艺，可生产最大长度600mm，最大宽度400mm，尺寸可根据客户要求加工。
ITO靶

陶瓷靶材

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陶瓷烧结ITO靶材，可制作平面靶，管靶
铝靶

金属靶材

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纯度99.99%铝旋转靶采用真空熔炼工艺，可生产最大长度4000mm，厚度根据客户要求定制。铝平面靶采用真空熔炼工艺，可生产最大长度2500mm，最大宽度400mm，尺寸可根据客户要求加工。
硅靶Si

陶瓷靶材

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硅旋转靶采用等离子喷涂或者烧结绑定工艺，可生产最大长度4000mm，厚度根据客户要求定制。 硅平面靶采用拉晶生长工艺，可生产最大长度600mm，最大宽度400mm，尺寸可根据客户要求加工。
铬靶

金属靶材

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高纯铬靶
钛靶/钛铝靶/铬靶

金属靶材

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采用熔炼法和粉末冶金热等静压工艺，提供50/50,70/30,80/20,及高铝33/67，20/80等比例，主要用于装饰镀膜，工具镀膜；性能稳定，成分均匀
靶材绑定

靶材绑定

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可提供平面和旋转的金属靶，陶瓷靶的绑定

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产品分类

纳丰靶材

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