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氧化铌NbxOy

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<p><span style="color: rgb(51, 51, 51); font-family: Arial, 微软雅黑; font-size: 14px; text-indent: 28px;">氧化铌旋转靶采用等离子喷涂工艺，可生产最大长度4000mm，喷涂厚度根据客户要求定制。</span><br style="color: rgb(51, 51, 51); font-family: Arial, 微软雅黑; font-size: 14px; text-indent: 28px; white-space: normal;"/><span style="color: rgb(51, 51, 51); font-family: Arial, 微软雅黑; font-size: 14px; text-indent: 28px;">  氧化铌平面靶采用冷压烧结工艺，可生产最大长度600mm，最大宽度400mm，尺寸可根据客户要求加工。</span></p>
ITO靶

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<p>陶瓷烧结ITO靶材，可制作平面靶，管靶<br/></p>
硅靶Si

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<p><span style="color: rgb(51, 51, 51); font-family: Arial, 微软雅黑; font-size: 14px; text-indent: 28px;">硅旋转靶采用等离子喷涂或者烧结绑定工艺，可生产最大长度4000mm，厚度根据客户要求定制。</span><br style="color: rgb(51, 51, 51); font-family: Arial, 微软雅黑; font-size: 14px; text-indent: 28px; white-space: normal;"/><span style="color: rgb(51, 51, 51); font-family: Arial, 微软雅黑; font-size: 14px; text-indent: 28px;">硅平面靶采用拉晶生长工艺，可生产最大长度600mm，最大宽度400mm，尺寸可根据客户要求加工。</span></p>

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